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Erscheinungsdatum | Titel | Beteiligte Person(en) |
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2014 | Model-based prediction of the ohmic resistance of metallic interconnects from oxide scale growth based on scanning electron microscopy | Linder, Markus; Hocker, Thomas; Holzer, Lorenz; Friedrich, K. Andreas; Iwanschitz, Boris, et al. |
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Fachgebiet (DDC)
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