1. ZHAW digitalcollection
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  4. Patente School of Engineering
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.otherStoeppelmann, Georg-
dc.contributor.otherHoffmann, Botho-
dc.contributor.otherHewel, Manfred-
dc.contributor.otherVertlib, Viacheslav-
dc.contributor.otherPlötze, Lothar Michael-
dc.contributor.otherMeier, Lorenz-
dc.contributor.otherVetterli, Bettina-
dc.contributor.otherHirayama, Martina-
dc.date.accessioned2019-05-06T09:48:00Z-
dc.date.available2019-05-06T09:48:00Z-
dc.date.issued2014-03-26-
dc.date.submitted2008-12-12-
dc.identifier.urihttps://digitalcollection.zhaw.ch/handle/11475/17036-
dc.identifier.urihttps://worldwide.espacenet.com/patent/search?q=pn%3DEP2196494B1de_CH
dc.description.abstractDie Erfindung betrifft Polyamid-Schichtsilikat Zusammensetzungen, enthaltend ein unbehandeltes Tonmineral und ein wasserlösliches Polyamid, wobei die Konzentration des Tonminerals grösser als 30 Gew.-% ist. Die Erfindung betrifft des Weiteren Nanocomposites, welche Tonmineralien homogen verteilt in einer wasserunlöslichen Thermoplast-Matrix enthalten. Diese Nanocomposites werden durch Mischen der PolyamidS-chichtsilikat- Zusammensetzung und einem wasserunlöslichen Thermoplasten in der Schmelze hergestellt.de_CH
dc.description.sponsorshipEMS-PATENT AGde_CH
dc.language.isodede_CH
dc.subject.ddc620.11: Werkstoffede_CH
dc.titlePolyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungende_CH
dc.title.alternativePolyamide layer silicate compoundsde_CH
dc.title.alternativeCompositions de polyamide-silicate en couchede_CH
dc.typePatentde_CH
dcterms.typeTextde_CH
zhaw.departementSchool of Engineeringde_CH
zhaw.organisationalunitInstitute of Materials and Process Engineering (IMPE)de_CH
zhaw.funding.euNode_CH
zhaw.originated.zhawYesde_CH
zhaw.id.patentEP2196494de_CH
zhaw.publication.codeB1de_CH
zhaw.display.portraitYesde_CH
zhaw.relation.patentCN101746769Ade_CH
zhaw.relation.patentCN101746769Bde_CH
zhaw.relation.patentJP2010159414Ade_CH
zhaw.relation.patentJP5443964B2de_CH
zhaw.relation.patentKR101461207B1de_CH
zhaw.relation.patentKR20100068210Ade_CH
zhaw.relation.patentUS2010159175A1de_CH
zhaw.relation.patentUS2013164477A1de_CH
zhaw.relation.patentUS9290635B2de_CH
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Stoeppelmann, G., Hoffmann, B., Hewel, M., Vertlib, V., Plötze, L. M., Meier, L., Vetterli, B., & Hirayama, M. (2014). Polyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungen (Patent No. EP2196494B1). https://worldwide.espacenet.com/patent/search?q=pn%3DEP2196494B1
Stoeppelmann, G. et al. (2014) ‘Polyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungen’. Available at: https://worldwide.espacenet.com/patent/search?q=pn%3DEP2196494B1.
G. Stoeppelmann et al., “Polyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungen,” EP2196494B1, Mar. 26, 2014 [Online]. Available: https://worldwide.espacenet.com/patent/search?q=pn%3DEP2196494B1
STOEPPELMANN, Georg, Botho HOFFMANN, Manfred HEWEL, Viacheslav VERTLIB, Lothar Michael PLÖTZE, Lorenz MEIER, Bettina VETTERLI und Martina HIRAYAMA, 2014. Polyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungen [online]. EP2196494B1. 26 März 2014. Verfügbar unter: https://worldwide.espacenet.com/patent/search?q=pn%3DEP2196494B1
Stoeppelmann, Georg, Botho Hoffmann, Manfred Hewel, Viacheslav Vertlib, Lothar Michael Plötze, Lorenz Meier, Bettina Vetterli, and Martina Hirayama. 2014. Polyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungen. EP2196494B1, filed December 12, 2008, and issued March 26, 2014. https://worldwide.espacenet.com/patent/search?q=pn%3DEP2196494B1.
Stoeppelmann, Georg, et al. Polyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungen. EP2196494B1, 26 Mar. 2014, https://worldwide.espacenet.com/patent/search?q=pn%3DEP2196494B1.


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