Title: Polyamid-Schichtsilikat-Zusammensetzungen
Inventor : Stoeppelmann, Georg
Hoffmann, Botho
Hewel, Manfred
Vertlib, Viacheslav
Plötze, Lothar Michael
Meier, Lorenz
Vetterli, Bettina
Hirayama, Martina
Patent submitter: EMS-PATENT AG
Issue Date: 26-Mar-2014
Language : German
Subject (DDC) : 620.11: Engineering materials
Abstract: Die Erfindung betrifft Polyamid-Schichtsilikat Zusammensetzungen, enthaltend ein unbehandeltes Tonmineral und ein wasserlösliches Polyamid, wobei die Konzentration des Tonminerals grösser als 30 Gew.-% ist. Die Erfindung betrifft des Weiteren Nanocomposites, welche Tonmineralien homogen verteilt in einer wasserunlöslichen Thermoplast-Matrix enthalten. Diese Nanocomposites werden durch Mischen der PolyamidS-chichtsilikat- Zusammensetzung und einem wasserunlöslichen Thermoplasten in der Schmelze hergestellt.
Further description : Also published as: CN101746769 (A), CN101746769 (B), JP2010159414 (A), JP5443964 (B2), KR101461207 (B1), KR20100068210 (A), US2010159175 (A1), US2013164477 (A1), US9290635 (B2)
Departement: School of Engineering
Organisational Unit: Institute of Materials and Process Engineering (IMPE)
Publication type: Patent
Patentnumber : EP2196494
metadata.zhaw.publication.code: B1
URI: https://register.epo.org/application?number=EP08021677
https://digitalcollection.zhaw.ch/handle/11475/17036
Appears in Collections:Patente School of Engineering

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