Bitte benutzen Sie diese Kennung, um auf die Ressource zu verweisen:
https://doi.org/10.21256/zhaw-4744| Publikationstyp: | Beitrag in wissenschaftlicher Zeitschrift |
| Art der Begutachtung: | Peer review (Publikation) |
| Titel: | Nanoscale patterning with block copolymers |
| Autor/-in: | Krishnamoorthy, Sivashankar Hinderling, Christian Heinzelmann, Harry |
| DOI: | 10.21256/zhaw-4744 10.1016/S1369-7021(06)71621-2 |
| Erschienen in: | Materials Today |
| Band(Heft): | 9 |
| Heft: | 9 |
| Seite(n): | 40 |
| Seiten bis: | 47 |
| Erscheinungsdatum: | 2006 |
| Verlag / Hrsg. Institution: | Elsevier |
| ISSN: | 1369-7021 1873-4103 |
| Sprache: | Englisch |
| Schlagwörter: | Self-assembly; Block-copolymers; Nantoechnology; Review |
| Fachgebiet (DDC): | 620: Ingenieurwesen |
| Zusammenfassung: | The self-assembly processes of block copolymers offer interesting strategies to create patterns on nanometer length scales. The polymeric constituents, substrate surface properties, and experimental conditions all offer parameters that allow the control and optimization of pattern formation for specific applications. We review how such patterns can be obtained and discuss some potential applications using these patterns as (polymeric) nanostructures or templates, e.g. for nanoparticle assembly. The method offers interesting possibilities in combination with existing high-resolution lithography methods, and could become of particular interest in microtechnology and biosensing. |
| URI: | https://digitalcollection.zhaw.ch/handle/11475/11958 |
| Volltext Version: | Publizierte Version |
| Lizenz (gemäss Verlagsvertrag): | CC BY-NC-ND 3.0: Namensnennung - Nicht kommerziell - Keine Bearbeitungen 3.0 Unported |
| Departement: | Life Sciences und Facility Management |
| Organisationseinheit: | Institut für Chemie und Biotechnologie (ICBT) |
| Enthalten in den Sammlungen: | Publikationen Life Sciences und Facility Management |
Dateien zu dieser Ressource:
| Datei | Beschreibung | Größe | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 2006_Krishnamoorthy-Hinderling_Heinzelmann_Nanoscale_patterning.pdf | 2.37 MB | Adobe PDF |  Öffnen/Anzeigen |
Zur Langanzeige
Krishnamoorthy, S., Hinderling, C., & Heinzelmann, H. (2006). Nanoscale patterning with block copolymers. Materials Today, 9(9), 40–47. https://doi.org/10.21256/zhaw-4744
Krishnamoorthy, S., Hinderling, C. and Heinzelmann, H. (2006) ‘Nanoscale patterning with block copolymers’, Materials Today, 9(9), pp. 40–47. Available at: https://doi.org/10.21256/zhaw-4744.
S. Krishnamoorthy, C. Hinderling, and H. Heinzelmann, “Nanoscale patterning with block copolymers,” Materials Today, vol. 9, no. 9, pp. 40–47, 2006, doi: 10.21256/zhaw-4744.
KRISHNAMOORTHY, Sivashankar, Christian HINDERLING und Harry HEINZELMANN, 2006. Nanoscale patterning with block copolymers. Materials Today. 2006. Bd. 9, Nr. 9, S. 40–47. DOI 10.21256/zhaw-4744
Krishnamoorthy, Sivashankar, Christian Hinderling, and Harry Heinzelmann. 2006. “Nanoscale Patterning with Block Copolymers.” Materials Today 9 (9): 40–47. https://doi.org/10.21256/zhaw-4744.
Krishnamoorthy, Sivashankar, et al. “Nanoscale Patterning with Block Copolymers.” Materials Today, vol. 9, no. 9, 2006, pp. 40–47, https://doi.org/10.21256/zhaw-4744.
Alle Ressourcen in diesem Repository sind urheberrechtlich geschützt, soweit nicht anderweitig angezeigt.