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Publikationstyp: Beitrag in wissenschaftlicher Zeitschrift
Art der Begutachtung: Peer review (Publikation)
Titel: Nanoscale patterning with block copolymers
Autor/-in: Krishnamoorthy, Sivashankar
Hinderling, Christian
Heinzelmann, Harry
DOI: 10.21256/zhaw-4744
10.1016/S1369-7021(06)71621-2
Erschienen in: Materials Today
Band(Heft): 9
Heft: 9
Seiten: 40
Seiten bis: 47
Erscheinungsdatum: 2006
Verlag / Hrsg. Institution: Elsevier
ISSN: 1369-7021
1873-4103
Sprache: Englisch
Schlagwörter: Self-assembly; Block-copolymers; Nantoechnology; Review
Fachgebiet (DDC): 620: Ingenieurwesen
Zusammenfassung: The self-assembly processes of block copolymers offer interesting strategies to create patterns on nanometer length scales. The polymeric constituents, substrate surface properties, and experimental conditions all offer parameters that allow the control and optimization of pattern formation for specific applications. We review how such patterns can be obtained and discuss some potential applications using these patterns as (polymeric) nanostructures or templates, e.g. for nanoparticle assembly. The method offers interesting possibilities in combination with existing high-resolution lithography methods, and could become of particular interest in microtechnology and biosensing.
URI: https://digitalcollection.zhaw.ch/handle/11475/11958
Volltext Version: Publizierte Version
Lizenz (gemäss Verlagsvertrag): CC BY-NC-ND 3.0: Namensnennung - Nicht kommerziell - Keine Bearbeitungen 3.0 Unported
Departement: Life Sciences und Facility Management
Organisationseinheit: Institut für Chemie und Biotechnologie (ICBT)
Enthalten in den Sammlungen:Publikationen Life Sciences und Facility Management

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